
L和佳能,其中约20台为ASML的EUV曝光系统。P5 PH1将用于1c nm制程DRAM生产,将同时制造通用内存和HBM。(财联社)原文链接
为平泽半导体生产基地P5晶圆厂集群的首个阶段PH1订购了70余台光刻机,为该阶段2027年的投运做好准备。平泽P5 PH1所需的这些光刻机来自ASML和佳能,其中约20台为ASML的EUV曝光系统。P5 PH1将用于1c nm制程DRAM生产,将同时制造通用内存和HBM。(财联社)原文链接
当前文章:http://ulhlro.pm-cjw-quickq.com.cn/e7tfd/dyla.ppt
发布时间:00:01:14
国内/05-17
国内/05-18
国内/05-22
国内/05-22
国内/05-18
国内/05-18
国内/05-19
国内/05-20
国内/05-21